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不管是LCD,，還是OELD,，都與TFT技術(shù)擁有密切的聯(lián)系,，所以TFT驅(qū)動技術(shù)是顯示技術(shù)的基礎(chǔ),。新一代顯示正在往大尺寸、高分辨率,、快速響應(yīng)速度、高對比度,、柔性和超薄方向發(fā)展,，這就對TFT技術(shù)提出更高的要求——高遷移率、高可靠性,、低成本,、耐彎折。
目前，TFT有a-Si,、Oxide和LTPS三種制備工藝流程,，其中Oxide TFT作為新一代TFT技術(shù)，具有可大面積制備,、抗彎折特性好,、成本低、容易集成等優(yōu)勢,，在新型顯示,、柔性電子及IC、Sensor等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景,。
但是傳統(tǒng)的IGZO材料體系為國外發(fā)明,，國內(nèi)不掌握專利，而且其遷移率偏低,，穩(wěn)定性有待提升,。華南理工大學(xué)教授彭俊彪說：“我們在摻雜稀土的IZO材料體系方面取得了突破，開發(fā)了機(jī)遇鑭系稀土（Ln）的新型IZO靶材（Ln-IZO）配方,。Ln-IZO TFT綜合性能可以滿足驅(qū)動AMOLED的要求,。”
而且BCE（Back Channel Etch：反向通道蝕刻）這種新型結(jié)構(gòu)通過特殊的辦法保護(hù)有源層,，工藝制程簡單,，接觸電阻低、成本降低,，是目前工業(yè)界急需的技術(shù),。彭俊彪指出，BCE結(jié)構(gòu)受重視,，是因?yàn)锽CE結(jié)構(gòu)在材料品類選擇上下了一些工夫,，它在實(shí)現(xiàn)高分辨率和超高分辨率的時候優(yōu)勢非常明顯。我們把握BCE結(jié)構(gòu)材料體系,，結(jié)合自身的工藝,，做出了BCE Oxide TFT。新型BCE Oxide TFT優(yōu)勢非常明顯,，低成本并且與現(xiàn)有工藝兼容性高,，遷移率、穩(wěn)定性等方面達(dá)到或超過ESL（Etch Stop Layer：腐蝕停止層）結(jié)構(gòu)性能,，同時還可以減少背光遮擋進(jìn)而降低功耗,。
據(jù)了解，沿著Oxide TFT技術(shù)路線,，華南理工大學(xué)在2011年的時候成功開發(fā)出第一個氧化物TFT驅(qū)動的AMOLED顯示屏,。緊接著,，我們采用Oxide TFT作為背板，優(yōu)化設(shè)計透明電極,，實(shí)現(xiàn)透明顯示,，透明顯示的透光率達(dá)到30％以上。2013年華南理工大學(xué)又做出國內(nèi)第一個全彩色,、柔性AMOLED顯示屏,。同時，華南理工大學(xué)自主研發(fā)的Ln-IZO TFT技術(shù),，遷移率可達(dá)40cm2/Vs,；功耗低，可以與LTPS TFT相比擬,。此外,，華南理工大學(xué)在柔性AMOLED顯示屏取得了比較大的進(jìn)展，提高了其使用壽命,。
但是大尺寸OLED一直是個難點(diǎn),，目前業(yè)界比較關(guān)注印刷顯示技術(shù)的進(jìn)展。彭俊彪說,，回顧液晶顯示技術(shù),，我們可以看到產(chǎn)線不斷提高，面板的面積越做越大,，廠商也隨之?dāng)U大,，大尺寸面板成為一大趨勢。從印刷顯示技術(shù)來看,，有沒有可能從TFT到OLED全部用印刷工藝來做呢,？這是一個新的發(fā)展趨勢，也是一個新的挑戰(zhàn),，需要進(jìn)行一些探索,。我們在OLED方面做過很大的嘗試，早在2005年我們就采用印刷的方法做OLED,，華南理工大學(xué)用的一些材料就能實(shí)現(xiàn)高清的輸入,。
在OLED上用噴墨打印的技術(shù)，墨水非常關(guān)鍵,，因?yàn)槿绻麏A層式的結(jié)果有針孔存在,，顯示的性能、穩(wěn)定性等就無法保證,，所以把薄膜做得均勻的工藝顯得尤為重要,。為了解決這個問題，彭俊彪認(rèn)為,，可以從三個方面進(jìn)行努力，第一是從結(jié)構(gòu)上調(diào)整發(fā)光材料，第二是控制好配置,，第三是控制好基板界面,。目前，我們把像素做成條狀結(jié)構(gòu),，一方面提高了打印效果,，另一方面提高了良品率。通過多方面的工藝調(diào)整以及襯底表面處理,，華南理工大學(xué)現(xiàn)在可以做到160PPI,。但是如果要加上TFT，AMOLED用噴墨打印的方法做,，現(xiàn)在看來起來有些問題,。彭俊彪說：“這與墨水的材料有關(guān)，我們現(xiàn)在的材料體系主要做的是藍(lán)光,，因?yàn)樗{(lán)光和紅光雖然蒸鍍材料很多,，但能用在噴墨打印上還是一個挑戰(zhàn)，所以在材料體系上還需要改進(jìn),�,！� |
